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RMK UVフェイスプロテクター エンハンスト と ソフィーナ iP スキンケアUV 03 シミができやすい肌環境 SPF50+PA++++ の違い

共通点と違いを並べています。どちらが良いかは書いていません。入っている量や効き目の強さは、 全成分表示からは分かりません。

比べる理由(2 つに共通すること)

  • どちらも日焼け止め

RMK UVフェイスプロテクター エンハンスト

RMK・日焼け止め・全 29 成分

価格
確認できませんでした
容量
50g

2026-10-10 時点の公式ページの記載です。購入先の価格は、セールや送料・ポイントで違うことがあります。

向いている人LAYRA 分析

LAYRA 未分析

向いていない人LAYRA 分析

LAYRA 未分析

価格
確認できませんでした
容量
30g

2026-09-29 時点の公式ページの記載です。購入先の価格は、セールや送料・ポイントで違うことがあります。

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LAYRA 未分析

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LAYRA 未分析

特徴(効能の表示)

各メーカーの公式ページの記載を、LAYRA が化粧品の効能の範囲(56 項目)に分類したものです。記載の有無を並べており、効き目の強さは比べていません。記載が無いことは、その効果が無いことを意味しません。

共通
なし
RMK UVフェイスプロテクター エンハンスト だけ
ソフィーナ iP スキンケアUV 03 シミができやすい肌環境 SPF50+PA++++ だけ

購入先

RMK UVフェイスプロテクター エンハンスト

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公式サイトで見る

ソフィーナ iP スキンケアUV 03 シミができやすい肌環境 SPF50+PA++++

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公式サイトで見る

全成分表示で比べる(詳細)

全成分表示にある成分のまとまり

全成分表示に、その成分の名前があるかどうかです。量は比べていません。

共通
なし
ソフィーナ iP スキンケアUV 03 シミができやすい肌環境 SPF50+PA++++ だけ

全成分

共通の成分は 10 個です。片方にだけある成分を、全成分表示の順で並べています(順番は量の多さを表しません)。

RMK UVフェイスプロテクター エンハンスト にだけある(19)

低温焼成酸化亜鉛、メトキシケイヒ酸エチルヘキシル、トリエチルヘキサノイン、ビスエチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、エチルヘキシルトリアゾン、(アクリル酸Na/アクリロイルジメチルタウリンNa)コポリマー、イソヘキサデカン、トリエトキシカプリリルシラン、ポリソルベート80、マイカ、EDTA-2Na、酸化スズ、ナイアシンアミド、BHT、ローヤルゼリーエキス、加水分解シルク、ツボクサ葉/茎エキス、セージ葉エキス、酸化チタン

ソフィーナ iP スキンケアUV 03 シミができやすい肌環境 SPF50+PA++++ にだけある(25)

カモミラET、グリチルレチン酸ステアリル、酸化Zn、パラメトキシケイ皮酸オクチル、低温焼成酸化Zn、セバシン酸ジイソプロピル、ローズマリーエキス、アクリル酸ナトリウム、アクリロイルジメチルタウリン酸ナトリウム共重合体/イソヘキサデカン/ポリソルベート80、トリスエチルヘキシルオキシカルボニルアニリノトリアジン、安息香酸アルキル(12~15)、雲母Ti、2,4-ビス-[{4-(2-エチルヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ}-フェニル]-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン、PEG1540、シリカ、ヘキサデシロキシPGヒドロキシエチルヘキサデカナミド、ユーカリエキス、牡丹エキス、シナノキエキス、シュガースクワラン、酸化Ti、低粘度メチルハイドロジェンポリシロキサン、メチルハイドロジェンポリシロキサン、エデト酸塩、香料